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磁控溅射法沉积纳米Cu薄膜的性能研究?

郭俊婷 , 徐阳

功能材料 doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2015.05.024

采用卷绕型磁控溅射设备在涤纶(PET)针刺毡表面沉积了纳米结构 Cu 薄膜,利用 X 射线衍射仪(XRD)对薄膜的组分和结晶状态进行了分析,用原子力显微镜(AFM)分析了不同溅射工艺参数对纳米Cu薄膜微观结构和颗粒直径的影响,并较为系统地分析了溅射功率、工作气压和沉积时间对镀铜PET针刺毡导电性能的影响。结果表明,增大溅射功率,镀铜PET针刺毡导电性和 Cu 膜均匀性变好,但应控制在6 kW以下;随工作气压的增大,薄膜方块电阻先减小后增大,薄膜厚度更加均匀;随着沉积时间的延长,Cu粒子的直径增大,Cu膜的导电性和均匀性明显变好。

关键词: 卷绕型磁控溅射 , 纳米结构Cu薄膜 , X射线衍射仪 , 原子力显微镜(AFM) , 导电性能

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